1.设备简介该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪，主要✅特点是设备体✅积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内最优的配置，从而提㊣高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面✅得到更好地保障。该设备标配2只Φ2英寸永磁靶，一台500W直流溅射电源(用于溅射金属导电材料)，1台300W全自动匹配射频溅射电源(用于溅射绝缘材料)，主要用来

　　该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪，主要特㊣点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内配置，从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。

　　该设备标配2只2英寸永磁靶，一台500W直流溅射电源(用于溅射金属导电材料)，1台300W全自动匹配射频溅射电源(用于溅射绝缘材料)常见的电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

　　2.10控✅制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能;

　　2.13 冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设✅备相关需水冷部件提供稳㊣定的制冷水;

　　4.2.1 设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁性;

　　5.1.3 其它：如用户选配冷却循环水机或㊣其它✅选购件，用户自行准备增配件的供电要求，不在安装条件范围内;